均界企业新闻-公司动态与创新成果-超高压微射流均质机-纳米微射流均质机厂家-均界

EN

企业新闻行业动态技术文章

当前位置：首页>新闻中心

从“压力堆砌”到“原理跃迁”：微射流凭什么成为更高阶的均质方案？

微射流均质机跳出传统压力堆砌均质思路，依托金刚石微通道原理实现精准对撞均质，适配医药 / 美妆 / 新能源等高阶精细化物料分散生产。

2026-06-03
均界超高压微射流均质：碳纳米管从实验室走向产业化的关键装备

均界超高压微射流均质设备，采用纯物理工艺解决碳纳米管团聚难题，实现低损伤、高纯度分散，助力碳纳米管从实验室走向产业化

2026-05-28
均界超高压微射流：新一代固态电池液高纯纳米均质技术

均界超高压微射流技术，为固态电池液提供纳米级分散方案，解决团聚、活性流失、杂质污染痛点，适配量产需求。

2026-05-27
纯物理纳米加工，均界超高压微射流解锁高端制造新可能

高端制造领域，均界超高压微射流以自研技术实现精准纳米控粒，突破传统均质瓶颈，为多行业提供洁净、高效的纯物理加工方案。

2026-05-21
药食同源加工新方向：均界技术赋能石斛等物料精细化加工

均界超高压微射流技术为石斛等药食同源物料提供低温物理破壁方案，实现活性保留率 98% 以上，口感与稳定性双重升级

2026-05-20
从痛点到突破：超高压微射流技术重塑石墨烯加工标准

均界超高压微射流技术以精准剥离、无损分散的物理工艺，解决石墨烯团聚、损伤、污染三大痛点，助力高端应用量产。

2026-05-16
均界微射流“撕开”高端：实现半导体CMP抛光液的“无介质分散”

均界微射流以超高压微射流技术，实现半导体CMP抛光液无介质分散，突破传统研磨粒径、纯度瓶颈，适配先进制程需求。

2026-05-15
MLCC小型化之路：浆料里的一粒金属颗粒，能对整个工业体系造成多大损失？

MLCC 小型化高容化核心在介质膜纯净度！传统砂磨引入金属杂质致短路 / 击穿，微射流均质无磨损、粒径均一，适配 0.5μm 超薄层量产。

2026-05-13
均界微射流“按需定压”——活性保留≥98%，破解生物制药均质“控压”难题

均界微射流按需定压技术，0-200MPa 宽幅无级调压，活性保留≥98%，破解生物制药均质控压难题，适配 mRNA 疫苗、脂质体、蛋白制剂生产

2026-05-08
均界微射流：实现MLCC钛酸钡浆料纳米分散，30天无分层沉降

均界微射流以400MPa超高压技术实现MLCC钛酸钡浆料纳米分散，解决传统工艺团聚、沉降、杂质三大痛点，助力高端电子材料突破。

2026-05-06

共20条当前1/2页

1对1专家量身定制“均质-分散-稳定”专属方案: 从物料适配、参数优化到产线设计，我们提供一站式微射流工艺定制

预约试样测试

下载微射流技术白皮书

微信二维码

24小时服务热线 133-1896-6480