纳米微射流均质机行业动态-品医药生命科学新材料资讯

关于我们

产品中心

应用行业

服务支持

新闻中心

联系我们

企业新闻行业动态技术文章

当前位置：首页>新闻中心>行业动态

高硬粉体为什么难分散？微射流均质机如何解决CMP抛光液团聚划伤难题

CMP 抛光液 D50 粒径达标仍会造成晶圆划伤，风险来自 D90/D99 尾部团聚大颗粒。微射流均质机依靠金刚石微通道解聚团聚体，不破坏原生晶粒，控制金属杂质，小试参数可直接量产移植，给出抛光液设备采购判断标准。

2026-08-28
微射流均质如何破解导电浆料CNT团聚与石墨烯网络难题

锂电导电浆料出现沉降分层、批次波动，往往是CNT缠绕、石墨烯堆叠团聚，检测纳米粒径实际为团聚体。微射流均质机依靠金刚石微通道实现无损解缠分散，保障长径比保留、批次稳定，给出导电浆料设备采购判断标准。

2026-08-27
纳米粉体硬团聚难以打散？砂磨、超声、微射流横向对比

纳米粉体加工常遇到小试指标优秀，量产良率下滑难题，软硬团聚混淆是关键。对比超声、砂磨工艺，均界 HPW 超高压微射流无介质解聚硬团聚，工艺线性放大，适配半导体 CMP、新能源、二维材料等高纯度浆料制备。

2026-08-26
石墨烯分散不是越细越好：微射流均质机解决片层、固含量与稳定性

打破石墨烯浆料分散越细越好的行业误区，详解微射流均质机定向剥离原理，对比传统均质设备短板，聚焦片层完整性、高固含量、批次稳定性，提供石墨烯浆料量产选型与工艺优化解决方案。

2026-08-25
微射流均质机：新材料与生物医药国产制备的核心利器

传统高压均质存在粒径不均、金属污染、工艺难放大难题？国产微射流均质技术适配LNP脂质体、固态电池浆料、半导体CMP抛光液、二维材料剥离，低污染、粒径可控、工艺线性放大，提供从研发到量产全套解决方案。

2026-08-24
功效精华透皮差？纳米乳液均质如何提升活性成分吸收率

高浓度功效精华常出现黏腻搓泥、活性成分氧化失效。解析传统乳化工艺短板，介绍超高压微射流纳米均质技术，实现纳米包埋、窄 PDI 粒径分布，提升透皮吸收率，支持护肤品小试到量产无缝放大。

2026-08-22
同样是容易沉淀，羊奶和硫磺乳液的处理逻辑为什么完全不同？

解析乳制品、硫磺乳液分层沉淀不稳定核心原因，对比两类体系微射流均质处理逻辑，结合实测数据说明压力参数、工艺窗口差异，详解微射流均质与HPP协同工艺优势，提供食品化工专属均质分散解决方案。

2026-08-21
氮化硼、氧化铈为什么越打越不一定越细？微射流分散中的5个常见误区

微射流分散并非压力、循环次数越多效果越好！详解氮化硼、氧化铈分散5大误区，聚焦D50/D90/D99粒径管控、防二次团聚、浆料稳存，均界超高压微射流提供无机粉体专属分散工艺与设备解决方案。

2026-08-20
石墨烯液相剥离：如何在不破坏晶格前提下实现充分分散

液相剥离制备石墨烯长期存在两难：作用力不足剥离不充分，作用力过强打碎片层产生晶格缺陷。对比化学氧化、超声、球磨、普通高压均质工艺短板，讲解超高压微射流定向剪切剥离原理、工艺参数控制以及小试到量产线性放大实现路径。

2026-08-19
CMP抛光液制备为什么要用微射流均质机？从D50、D90到D99看懂氧化铈浆料分散

详解CMP氧化铈抛光液颗粒团聚成因，对比高速剪切、砂磨与微射流均质工艺差异。聚焦D50主体粒径、D90分散效果、D99划伤风险核心参数，解读微射流技术在高端半导体抛光液制备的应用优势。

2026-08-18

共53条当前2/6页

1 2 3 4 5···

1对1专家量身定制“均质-分散-稳定”专属方案: 从物料适配、参数优化到产线设计，我们提供一站式微射流工艺定制

预约试样测试

下载微射流技术白皮书

微信二维码

24小时服务热线 133-1897-5847