微射流分散并不是压力越高、循环次数越多，粒径就一定越小。对于氮化硼、氧化铈等无机粉体，设备输入的机械能只能解决分散过程中的一部分问题；颗粒晶体结构、团聚强度、固含量、分散剂、温升以及粒径检测方法，都会影响最终结果。压力设置不合理时，浆料可能很快进入粒径平台期，甚至出现D90、D99反弹或储存后重新团聚。
要判断微射流处理是否有效，不能只看设备压力和单次粒径数据，而应先明确目标究竟是解聚、破碎、剥离，还是长期稳定分散。
决定微射流分散效果并不是压力越高、循环次数越多，氮化硼和氧化铈就一定越细。粉体结构、团聚强度、分散剂、固含量、温升和检测方法，都会影响最终粒径。处理过度时，浆料还可能进入粒径平台期，甚至发生再次团聚。
提高压力有助于打开软团聚体，但当大部分团聚体已经解聚后，继续升压的效果会明显减弱。此时能耗和温升仍在增加，D50却可能基本不变。
因此，应采用逐级加压和分段取样的方式，通过D50、D90、D99的变化确定合适压力，而不是直接使用设备最高压力。
前几次循环通常能快速降低大颗粒比例，但达到一定次数后，粒径可能进入平台期。继续循环不仅增加能耗，还可能提高颗粒碰撞频率，引发重新团聚。
对于氮化硼，过多循环还可能使片层横向尺寸过度下降；对于氧化铈，则要警惕D99反弹和储存后返粗。
D50反映的是主体颗粒，不能完整代表少量大颗粒。氧化铈用于CMP抛光液时，即使D50已经达到要求，只要D90或D99仍然偏高，残留团聚体就可能增加划伤风险。评价微射流分散效果时，应同时观察：
D50：主体粒径；
D90：较大颗粒控制情况；
D99：异常大颗粒风险；
静置后粒径：是否发生再次团聚。
粒度仪测得的通常是等效粒径，不一定等于真实几何尺寸。氮化硼属于片状材料，检测数值下降可能来自团聚体解聚、片层剥离或横向尺寸减小，不能只凭D50判断。必要时应结合SEM、TEM、AFM或拉曼光谱确认结构变化。
氧化铈则可结合粒径分布、显微观察、Zeta电位和大颗粒计数进行判断。处理前后的稀释比例、分散介质和检测方法必须保持一致。
微射流均质机只能提供机械作用，不能代替合理的配方设计。如果粉体润湿不足、分散剂不匹配、pH不合适或固含量过高，刚刚打开的颗粒仍可能迅速团聚。
氮化硼、氧化铈的微射流分散，关键不是盲目提高压力，而是根据材料结构、固含量和应用目标找到合适的工艺窗口。
均界超高压微射流均质机面向无机粉体解聚、片层剥离及纳米浆料分散等应用，通过可调压力和可控循环处理，帮助减少团聚体、收窄粒径分布，并改善浆料批次一致性。
针对氮化硼、氧化铈等不同物料，均界微射流可结合D50、D90、D99、温升及储存稳定性开展工艺验证，为实验室研发、中试放大和生产设备选型提供参考。
如果您的浆料正面临“压力不断提高，粒径却不再下降”的问题，可联系均界微射流进行物料试验，让设备选型建立在真实测试结果上。
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