六方氮化硼（h-BN），因其独特的层状结构，被称为“白色石墨烯”。由它剥离得到的氮化硼纳米片（BNNS），在导热、绝缘、抗氧化等方面展现出优异的性能，广泛应用于复合材料、电子封装、热管理等领域。
然而，如何高效、洁净地将h-BN剥离成少层甚至单层的BNNS，一直是产业化的核心难题。
h-BN由硼原子和氮原子交替排列，形成类似石墨的六方层状结构。层内由强共价键结合，层间则依靠较弱的范德华力堆叠。理论上，只要克服层间的范德华力，就能将h-BN剥离成纳米片。
但实际操作中，h-BN的层间结合力比石墨更强，且片层之间容易发生再团聚，导致剥离效率低、片层厚度不均、尺寸不可控，然而问题就在于：传统方法，要么力度不够，要么污染严重，要么无法放大。
微射流液相剥离技术，采用纯物理方式，通过超高压驱动物料通过特制的金刚石微通道，在毫秒级时间内产生三重作用力：
强剪切力：高速流体通过微米级通道时，产生极强的剪切作用，直接撕开h-BN层间结合
高速对撞：两股高压物料在容腔内正面碰撞，进一步促进层间分离
空化效应：压力骤变产生的气泡溃灭，释放冲击波，作用于片层边缘，加速剥离
微射流剥离的核心优势体现在多个方面：
在剥离效率上：三重作用力协同，远高于传统方法。在片层质量上，纯物理法不引入任何化学试剂，保持BNNS结构完整。
在尺寸可控性上：通过调节压力和循环次数，可以精准控制片层的厚度和尺寸分布。在可放大性上，从实验型到量产型，工艺参数可以线性放大，研发到量产无缝衔接。
在无污染方面：全金刚石交互容腔设计，零金属污染，满足高纯度应用场景的严苛要求。
均界微射流，专注于超高压微射流纳米均质技术的研发与应用，为BNNS的液相剥离提供从实验室到量产的全流程解决方案。
在设备方案上，均界提供了覆盖研发、中试、量产的全系列产品。实验型HPW-10和HPW-20设计压力可达420MPa，适用于小批量研发和工艺验证；中试型HPW-250流量提升至4L/min，满足工艺放大需求；量产型HPW-500流量可达8L/min，支持大规模连续生产。
所有设备均采用同技术路线，实验参数可直接转移到中试和量产设备，实现工艺的零障碍转移。
此外，均界提供免费寄样测试服务，客户寄送物料后，均界材料实验室将出具详细的粒径分布报告和工艺建议。
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